技術で世界一

日々変化する市場ニーズを的確に捉え、超高精度技術の限界に挑戦するSUMCOでは、「技術で世界一」をビジョンとして掲げ設備や研究開発への投資を意欲的に進めています。

シリコンウェーハに求められるもの

半導体デバイスの基板となるシリコンウェーハには、「結晶完全性」「平坦度」「清浄度」が求められます。デバイスの集積度が高くなるにつれて要求される品質も厳しくなっています。

無欠陥結晶

ウェーハ中の欠陥のコントロールは、デバイスの特性を高める上でとても重要です。半導体デバイス活性領域での結晶完全性を高めることは、今後の技術の進化につながります。

高平坦度

現在のウェーハの平坦度は、300mmウェーハを東京ドームの広さとしたときに表面の高低差が0.1mmあるかどうかというレベルで制御されています。最先端の技術に対応するために、ウェーハの平坦度は一層厳しいレベルが要求されています。

高清浄度

「高清浄度」とは、パーティクル(微小なゴミ)がなく、汚染(特に金属汚染)がないことを指します。クリーンルーム内の清浄度を維持し、製造工程で金属汚染をいかに抑制するかといった、清浄度を高く維持するための徹底した工程品質管理が重要です。

世界一を目指すSUMCOの技術

特許件数

3,000件以上の特許取得数を誇るSUMCO。シリコンウェーハの製造プロセスである「単結晶引上」「ウェーハ加工」「特殊加工」の各工程において、業界トップクラスの最先端技術を駆使し、お客様のさまざまなニーズに対応しています。

研究開発費

さらなる技術革新やシリコンウェーハの進化には、継続的な研究開発が不可欠です。SUMCOでは、常に次世代のニーズを先取りした技術開発を進め、毎年50億円程度を研究開発費用に投じています。

表彰歴

2019年3月に、世界トップの半導体メーカーであるインテル社から17年連続となる「SCQI賞」をいただきました。また、ファウンダリートップのTSMC社からは、5年連続での「Excellent Performance賞」を、世界最大の半導体メモリーメーカーであるサムスン電子社からは、「The 35th Anniversary of Partnership賞」を受賞。世界で活躍する複数の半導体トップメーカーから、5年連続同時受賞という快挙を達成しました。

AIの活用

さらなる生産性と業務効率向上へ向けて、SUMCOでは2018年1月に専門部署を発足。これまでノウハウとして長年受け継いできた技術も含め、社内の多様な事象をデータ化し、現状分析・改善につなげる「見える化」、属人化せず工場の安定生産に寄与する「自動制御」、さらには「AI」を活用した効率的な生産計画立案や不良品の判定など、会社の将来を支える要素を開発し、その普及をめざしています。

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