シリコンウェーハの製造方法[ウェーハ加工工程]

1.単結晶引上工程 2.ウェーハ加工工程 3.特殊加工工程
2.ウェーハ加工工程

1.切断(スライシング)

単結晶インゴットは直径が均一になるよう外周研削されたのち、所望される抵抗率の範囲で内周刃切断機かワイヤーソーを用いて厚さ1mm程度にスライスして、ウェーハ状にします。

写真:ワイヤーソー、図:切断イメージ

2.粗研磨(ラッピング)

ウェーハの両面の平行度を改善し、所定の厚さに仕上げるために、アルミナ研磨材で粗研磨(ラッピング)されます。

写真:ラッピング装置、図:ラッピング装置構造

3.エッチング

前工程までにおけるウェーハ表面上の機械加工のダメージを取り除くために、化学的に表面エッチングを行います。

4.研磨(ポリッシング)

ウェーハ表面の凹凸を無くし、平坦度の高い鏡面仕上げを行うため、コロイダルシリカ液を用いてメカノケミカル研磨が施されます。

写真:研磨装置、図:研磨装置構造

5.洗浄・検査

洗浄ののち、所定の検査を終えてポリッシュト・ウェーハが出来上がります。
当社で製造した超高品質のポリッシュト・ウェーハは、世界中のお客様にお使いいただいております。

写真:洗浄・検査工程、ポリッシュト・ウェーハ

  • 1.単結晶引上工程
  • 3.特殊加工工程

製品情報

太陽電池用シリコンウェーハ

次世代ウェーハ開発への挑戦

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